“好消息，国产光刻机研发成功，国产“芯”的即将到来”的版本间的差异
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2020年8月14日 (五) 04:26的最新版本
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好消息，国产光刻机研发成功，国产“芯”的即将到来
众所周知，随着科技产业的快速发展，半导体芯片变得越来越重要。无论我们使用智能手机、计算机还是人工智能技术，芯片的支持几乎是不可或缺的。只有拥有强大的芯片，我们才能创造出强大的科技产品。对于一个科技企业来说，半导体芯片的重要性不言而喻！
美国自去年年初以来一直在限制和打压我们的半导体工业，目的是限制我们的芯片业发展。因此，为什么技术越来越全面，工业生产投入了大量机器人，这些工业机器人需要信息技术控制，自然芯片成为这些机器人的控制中心。
现在芯片领域似乎迎来了大洗牌，台积电引领芯片行业，三星斥巨资都赶不上台积电，连业界内的老霸主英特尔都不如台积电，可见现在台积电有多强。目前，台积电的7纳米生产能力已满负荷，正处于攀升阶段。5纳米芯片的大规模生产进展顺利，3纳米和2纳米芯片的大规模生产逐渐提上日程。三星几乎赶不上台积电的步伐，而英特尔刚刚在10纳米工艺技术方面取得突破。
制造高端芯片需要先进的光刻机。目前，世界上90%的光刻机被荷兰的Asme公司垄断，只有先进的光刻机才能制造出先进的芯片。目前，我们的芯片设计没有问题，但我们制造芯片仍然非常困难。在平板印刷领域，几乎所有的都被荷兰ASML公司垄断了。由于光刻技术的复杂性，经过多年的市场竞争，荷兰ASML公司已经成为光刻领域的垄断者。目前，只有ASML公司能制造世界上最好的EUV光刻机。正因为如此，荷兰ASML公司的光刻机一直供不应求，很多公司甚至用钱都买不到！
要知道国内65纳米技术的光刻机仍然严重落后，必须加大技术和人才的投入。当然，国内光刻机的落后也是由于国内研究起步较晚，技术人才经验积累不足，加之技术封锁，导致国内光刻机长期落后。而ASML起步较早，最初以水为介质的浸没式光刻机击败了当时的竞争对手，逐渐发展成为世界上最强的芯片设备制造企业。在ASML的关照下，台积电的优势逐渐稳定下来。
美国对我们半导体领域的压制加快了我们的研发速度。中国制造的28纳米浸没式光刻机已经是目前中国最好的光刻机。与国外先进企业相比，上海微电子在资金和人员方面仍处于研发阶段。与阿斯麦相比，上海微电子成立已近20年。此外，根据瓦森纳协定，上海微电子的技术一直是国外出口管制技术，上海微电子无法在国际市场上通过相关技术。
为了解决国内半导体芯片的研发生产问题，我们只能依靠自己的研发生产，即使光刻机技术难度很大，只要我国的国内技术企业一起工作，我们就能够取得突破，对此你是怎么看的呢？
