“国产光刻机看到了希望，光刻机隐形巨头，将从90纳米跨越到28纳米”的信息
基本信息
| 显示的标题 | 国产光刻机看到了希望，光刻机隐形巨头，将从90纳米跨越到28纳米 |
| 默认排序关键词 | 国产光刻机看到了希望，光刻机隐形巨头，将从90纳米跨越到28纳米 |
| 页面长度（字节） | 3,298 |
| 页面ID | 11082 |
| 页面内容语言 | zh-cn - 中文（中国大陆） |
| 页面内容类型 | 维基文字 |
| 爬虫索引 | 允许 |
| 至该页面的重定向数 | 0 |
| 计为内容页面 | 是 |
页面保护
| 编辑 | 允许所有用户（无限期） |
| 移动 | 允许所有用户（无限期） |
编辑历史
| 页面创建者 | 明华（讨论 | 贡献） |
| 页面创建日期 | 2020年7月10日 (五) 20:46 |
| 最后编辑者 | 明华（讨论 | 贡献） |
| 最后编辑日期 | 2020年8月14日 (五) 04:27 |
| 总编辑数 | 3 |
| 不同作者总数 | 1 |
| 最近编辑数（过去90天内） | 0 |
| 最近的不同作者数 | 0 |
