华为已申请光刻设备和光刻系统专利，四年前已开始部署光刻机
IT导报 黄屋狮 2020.7.27
据悉，华为已经申请了
光刻机设备的某种专利
主要意思就是为了提高光刻的精确度
这个专利，再搭配近日大火的
华为光刻机人才招聘
着实让业内吃惊了一把
尤其是老牌大厂台积电
看着这个新兴的事物心中难免会不好受
有人说华为代替不了台积电
最起码一时半会不可能超越
我想说确实是这样
芯片加工的难度不亚于造一艘航母
华为需要巨大的人力物力和时间
但是我们要向前看
台积电的核心无非是
几十台荷兰ASML的光刻机
华为只要造出水平相近的光刻机
再加上国人的非凡效率
我想超越台积电也不是很遥远
（来源：IT导报）
